光刻胶概念盘初活跃 阿石创触及20CM涨停
07-25 09:34 星期五
【光刻胶概念盘初活跃 阿石创触及20CM涨停】财联社7月25日电，早盘光刻胶概念活跃，阿石创触及20CM涨停，康鹏科技、美埃科技、怡达股份、上海新阳、华懋科技等跟涨。消息面上，据报道，清华大学官网介绍，日前，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶，为先进半导体制造中的关键材料提供了新的设计策略。
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上海新阳 -0.89%康鹏科技 -1.08%美埃科技 -4.24%
怡达股份+0.47%阿石创 -8.52%华懋科技 -2.22%热门评论
财神入场抢筹码回复1周前·上海
0光刻胶一动，散户心跳加速，主力又在玩哪一出？
小炒怡情回复1周前·上海0清华研发新材料，股市立马反应剧烈，这就是科技的力量？
评论萝卜特回复1周前·上海01、背景补充
光刻胶是半导体制造的核心材料，尤其EUV（极紫外）光刻胶是突破7nm以下制程的关键。当前EUV光刻胶市场长期被日本JSR、信越化学等垄断，国产化率极低。清华大学团队开发的聚碲氧烷光刻胶创新性引入碲元素（Te），利用其高EUV吸收率和低键能特性，解决了传统光刻胶灵敏度低、组分不均、易产生缺陷等问题，为国产替代提供了新路径。
2、影响分析
短期市场情绪催化：
阿石创、康鹏科技等涨停反映资金对光刻胶国产替代概念的追捧，但需警惕技术成果尚未产业化，部分企业业务关联性存疑（如阿石创主营靶材）。
中长期产业逻辑强化：
若清华技术实现量产，将打破海外垄断，降低国内晶圆厂材料成本。具备碲资源或光刻胶研发能力的企业（如上海新阳、华懋科技）或受益。
需关注产业化进度：光刻胶需通过晶圆厂验证周期（通常23年），且聚碲氧烷的稳定性、量产成本待验证。
风险提示：概念股短期涨幅脱离基本面，谨防回调；技术转化不确定性高，需跟踪专利布局及合作动向。
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