光刻机、光刻胶概念异动拉升 国风新材4天2板
02-13 10:01 星期五
【光刻机、光刻胶概念异动拉升 国风新材4天2板】财联社2月13日电，光刻机、光刻胶概念盘中异动拉升，国风新材直线涨停，走出4天2板，永新光学、洪田股份、华懋科技、京华激光、华融化学等快速跟涨。消息面上，招商证券指出，AI服务器需求爆发正驱动DRAM与逻辑芯片资本开支高增，预计2026年全球晶圆前道制造设备（WFE）市场规模将突破1300亿美元并创历史新高，增长率有望达20%以上。
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华融化学 -1.55%京华激光 -1.86%洪田股份 -2.74%国风新材 -1.55%
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0行业异动原因分析：
1. AI需求驱动半导体扩产：招商证券指出，AI服务器需求爆发推动DRAM与逻辑芯片资本开支高增，2026年全球晶圆前道制造设备（WFE）市场规模预计突破1300亿美元，增长率或超20%，直接利好光刻设备及材料供应商。
2. 存储芯片产业变革：存储芯片巨头转向短期合约定价机制（如月度定价），供应商议价能力增强，叠加三星电子向英伟达交付HBM4芯片的消息，刺激半导体产业链景气度预期。
3. 国产芯片产业政策支持：国内半导体企业（如中芯国际、华虹半导体）产能利用率维持高位，叠加港股芯片ETF（如159131）资金流入，市场对国产替代及技术升级的预期升温。
后续走势预测：
- 短期波动性可能增加：中芯国际、华虹半导体等头部企业将于2月10日及12日发布业绩并审议关键收购案（如中芯南方股权整合），市场对事件敏感度较高，或引发股价波动。
- 中长期技术升级主线明确：AI算力需求持续释放，叠加晶圆厂扩产周期，光刻机、光刻胶等核心设备材料环节有望维持高景气度。但需警惕贸易政策变动及资本开支压力带来的行业分化风险。
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