【芯源微：涂胶显影机14nm制程的研发尚未正式启动】财联社8月12日讯，芯源微在互动平台表示，公司生产的前道Barc（抗反射层）涂胶设备在已通过上海华力工艺验证，可满足客户28nm技术节点加工工艺。公司涂胶显影机14nm制程的研发尚未正式启动，目前仍处于计划阶段。