电报|松井新材:负型光刻胶发明专利通过初审 未来有望用于5G半导体领域
02-04 09:08 星期四
【电报|松井新材:负型光刻胶发明专利通过初审 未来有望用于5G半导体领域】《科创板日报》4日讯,松井新材申请的发明专利“负型光刻胶树脂及其制备方法和负型光刻胶”已通过初审并于2020年12月1日公开,目前进入实质性审查阶段。记者得知,该发明的负型光刻胶树脂,以单分子固体环氧树脂为主体树脂,最终获得的负型光刻胶树脂也为单分子树脂,从而保证所有的负型光刻胶树脂具有相同的光固化灵敏性和显影速度,表干性和显影性好,可以显著提高负型光刻胶的分辨率。未来可用于消费电子、线路板等5G领域。(《科创板日报》记者 李拥军)
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