【TEL与ASML合力研制下一代NA EUV光刻机 预计2023年投入运行】《科创板日报》10日讯，日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子宣布，将在镀膜/显影技术上与ASML合作，以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制，确保2023年投入运行。参与该EUV光刻机研发的还有比利时的欧洲微电子中心。